电话:0371-62768926/0371-62768120   E-mail:sales@songshanheater.com

您现在的位置:首页 >> 服务与支持 >> 技术支持 >> 元件在不同气氛下使用温度和表面负荷的控制

元件在不同气氛下使用温度和表面负荷的控制

浏览次数: 日期:2017年8月20日 10:26

元件在不同气氛下使用温度和表面负荷的控制

气氛

炉温(℃)

表面负荷W/cm³)

对元件的影响

解决办法

1290

3.8

SiC作用生成甲烷减少SiO2保护膜

露点激活

CO2

1450

3.1

侵蚀碳化硅

用石英管保护

18%CO

1500

4.0

无影响

 

20%CO

1370

3.8

吸附碳粒影响SiO2保护膜

 

卤素

704

3.8

侵蚀碳化硅减少SiO2保护膜

用石英管保护

碳氢化合物

1310

3.1

吸附碳粒而导致热污染,分解的碳沉积,易造成电器故障

送进充分的空气

1290

3.1

SiC作用反应生成甲烷减少SiO2保护膜

露点激活

甲烷

1370

3.1

吸附碳粒而导致热污染

 

N

1370

3.1

SiC反应形成氮化硅绝缘层

 

Na

1310

3.8

侵蚀碳化硅

用石英管保护

SO2

1310

3.8

侵蚀碳化硅

用石英管保护

真空

1204

3.8

 

 

1310

3.8

碳化硅被氧化

 

水(不同含量)

1090~1370

3.1~3.6

SiC作用生成硅的水化物

 

根据炉子的结构、气氛、和温度正确地选择元件的表面负荷是达到最佳使用寿命的关键。下图示出了元件辐射在不同阻碍情况下的炉温、元件温度与表面负荷之间的关系。  

 

 推荐的元件表面负荷

炉温℃

1100

1200

1300

1350

1400

1450

发热部表面负荷

<17

<13

<9

<7

<5

<4

所属类别: 技术支持

该资讯的关键词为: